随着宏观经济的稳步复苏和终端需求的逐步增强，半导体行业正站在一个崭新的历史节点上。技术迭代升级和降本增效，已成为半导体企业把握机遇、应对挑战的两大核心策略。作为本土超纯水企业的代表，高频科技凭借其先进的超纯水工艺技术，为半导体企业冲刺先进制程提供了有力支持，并带来一系列优化成本效益的创新解决方案，助力企业在激烈的市场之间的竞争中赢得先机。

  半导体制造是一个复杂的过程，涉及晶圆制备、光刻工艺、刻蚀和腐蚀、测试、封装等多个关键步骤。在这一系列精细的操作中，超纯水扮演着至关重要的角色。例如，在晶圆制备过程中，超纯水用于清洁、去除颗粒和化学杂质，确保晶圆表面的洁净度，从而降造缺陷。在半导体光刻工艺中，超纯水用于洗净掩膜板、镜片和晶圆，以确保图案的精确重复和光刻质量。

  超纯水的水质对于半导体制造的重要性不言而喻。一旦水质无法达到足够的纯净度，其中微粒子、气泡(包括溶解的氧气和氮气)、总有机碳(TOC)、金属离子或硼、硅等元素的微小变化，都将对半导体生产过程产生显著影响，进而降低产品的质量和合格率。例如，当TOC(总有机碳)指标下降时，光刻精度会受一定的影响，因此导致芯片质量的下降;金属离子指标的差异可能会改变晶圆的原子密度，同样会导致芯片质量的降低;而硼(Boron)元素含量过高则会干扰P-N结的形成，对芯片质量产生不良影响。在迈入高级制程后，一些以往没影响良率的细微分子，也因为制程线径缩小，成为影响品质的重要的条件。因此，随着芯片技术的慢慢的提升，对所需超纯水质量的要求也日益严苛。

  作为本土超纯水企业的代表，高频科技始终致力于超纯水工艺的提升，以满足半导体行业对超纯水质量日益提升的要求。高频科技的超纯水设备系统，融合了物理、化学、光化学、机械、空气动力学、流体力学等多项学科的前沿技术。该系统利用多介质过滤、活性炭吸附、离子交换、反渗透膜、紫外线杀菌、紫外线TOC去除、电渗析、超滤、钠滤、真空脱气塔、膜脱气等一系列先进的专利处理环节，配合8次增压提升，预处理、初级制备和抛光处理三个关键步骤，实现了对水中颗粒物、阴阳离子、特殊离子、TOC(总有机碳)、微生物、溶解气体的严控，确保了产水水质接近绝对纯度，电导率无限接近18.24MΩ的理论极限值，纯度高达99.9999999999%(ppt级别——十亿分之一)。凭借技术工艺的不断精进，高频科技超纯水质量已达到美国ASTM标准等国际高标准，不仅可满足高端芯片生产对超纯水品质的需求，还可助力半导体先进制程下的产品良率和生产效率提升，为企业创新发展提供有力支持。

  由于半导体用水量大，水资源管理的资本支出被认为是一个需要监测的关键指标。正因如此，慢慢的变多半导体企业日益重视水资源管理。例如，台积电在节水方面将水处理和回收作为重要环节，目前其使用的水源中，再生水的比例高达85%-90%，工业废水回收率更是达到了86%。

  而在内地，高频科技在水处理和回收利用等方面的表现同样出众。通过打造先进的水循环系统，高频科技助力半导体企业提升水资源利用率，以此来实现降本增效，大大降低水风险，并提升经济及社会效益。

  高频科技依托自有优秀半导体水系统专家，在确保超纯水水质纯度稳定达标的基础之上，带来研发交付了超过30种可选回用水工艺技术，包括砂滤及炭滤器反洗水回用、砂滤及炭滤器正冲水回用、反渗透浓缩水回用、EDI和UF浓缩水回用、反渗透冲洗水回用、冷却塔排放水回用、低浓度有机废水回用等。目前，高频科技的水制程回收率已达到75%-90%，致力于让每一滴超纯水都能循环再利用，从而明显降低企业的用水成本，提升企业市场竞争力和可持续发展能力。此外，高频科技还通过前瞻性规划、专家运维和绿色水系统创新等多维度，构建“绿色厂务工厂”模式，协助半导体企业逐步降低资源消耗、降低生产所带来的成本，满足环保要求，从而在经济效益与社会效益上实现双重提升。

  半导体企业通过技术迭代和精细的成本效益优化，可以不断的提高自身的核心竞争力，为企业的长远发展奠定坚实基础。高频科技作为和半导体生产紧密相关的超纯水领域科技公司，不断地通过技术进步和多元创新，助力半导体企业加快技术创新步伐，开拓降本增效空间，为半导体行业持续发展注入动力，为推动整个行业迈向更高水平做出贡献。